國產光刻機突然宣布重大消息，美國封鎖14納米光刻機將落空

美國為了限制中國芯片產業的發展可謂無所不用其極，此前眼看僅是聯合荷蘭無法阻止中國芯片產業的發展，近日又拉攏了日本，然而近日中國一家機構卻突然宣布了一項重大技術突破，意味著國產光刻機產業鏈又打通了一個環節。

之前美國要求ASML不要對中國出售EUV光刻機，ASML照做了，由此導致中芯國際支付了超過1億美元的EUV光刻機至今未能到貨；2022年下半年美國更進一步要求ASML不要對中國出售14納米以下的DUV光刻機，試圖借此進一步扼殺中國芯片。

然而中國隨后與日本合作，采購日本尼康的光刻機，2022年中國一家芯片企業招標27台光刻機，其中21台就給了日本光刻機企業，6台則給了國內的光刻機企業；同時中國也大舉從日本進口二手光刻機，滿足了國內成熟工藝產能擴張的要求。

有見及此，美國這次拉攏了日本，日本和荷蘭的光刻機企業幾乎壟斷了全球光刻機市場，由此中國連用于成熟工藝的DUV光刻機都難以獲得了，似乎美國的圖謀可望再次得逞，然而近期哈工大卻突然宣布光刻機的一項重要技術取得了突破。

哈工大宣布研發成功的技術名為「高速超精密激光干涉儀」，這項技術是14納米光刻機的重要技術，可以確保掩膜工作台、雙工作台和物鏡系統之間復雜的相對位置，實現光刻機的整體套刻精度，解決了光刻機的一項重要技術難題，這項技術還獲得了世界光子大會「金燧獎」的金獎，證明了技術的含金量。

光刻機本身就是一個很長的產業鏈，據悉ASML的EUV光刻機就包括10萬個零部件，需要全球5000家企業合作，由此可以證明光刻機的技術研發難度，正是由于光刻機的技術難度極大，打通產業鏈就需要較長時間。

此前的消息指出中國在雙工作台、物鏡系統、激光光源等方面都已取得了進展，如今再有高速超精密激光干涉儀的技術突破，代表中國正進一步加快光刻機產業鏈的技術成績，中國也成為全球唯一一個擁有完善光刻機產業鏈的經濟體。

正是眼見著中國的光刻機產業鏈一步步打通，光刻機巨頭ASML從之前說即使給中國圖紙，中國也無法生產出先進光刻機，如今則改了口風，認為再給中國3-5年時間，中國就能生產出先進光刻機。

這幾年美國的做法逼出了中國芯片行業的潛力，中國芯片屢屢打破空白，在存儲芯片、射頻芯片、GPU芯片方面都取得了突破，經過這幾年的努力在光刻機關鍵技術上也陸續取得進展可謂順理成章，面對中國光刻機產業鏈的進展，ASML已表現出擔憂的態度，ASML高管喊話美國指繼續限制對中國供應光刻機將會加速中國芯片產業鏈的發展，可以說是對美國提出了警告。

連美國富豪比爾蓋茨也認為美國的做法只會讓美國芯片蒙受巨大的損失，擋不住中國芯片前進的腳步，如今美國多家芯片企業都公布了2022年下滑的業績，其中Intel連續兩個季度虧損、美光也已開始出現虧損，印證了比爾蓋茨的預測。

中國芯片則在大踏步前進，不斷以國產芯片替代美國芯片，由此中國芯片的自給率迅速提升到三成以上，而芯片進口減少了970億顆，相信光刻機這個最后環節也必將被打破，美國的限制最終吃虧的將是美國芯片。